Lithografievorrichtung mit einem Facettenspiegel

WO2014009120 Art A1 16. Januar 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014009120
Aktenzeichen: EP13731100
Anmeldetag: 19. Juni 2013
Veröffentlichung: 16. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G01L21/00G01B7/14G01B13/12G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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