Alkali development type resin, and photosensitive resin composition using same

WO2014010204 Art A1 16. Januar 2014

Anmelder: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014010204
Aktenzeichen: EP13817281
Anmeldetag: 3. Juli 2013
Veröffentlichung: 16. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C08G8/32G03F7/038H05K3/00H05K3/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Kayaku

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.

1.397 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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