Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blanks including actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method and photomask

WO2014010392 Art A1 16. Januar 2014

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014010392
Aktenzeichen: EP13817157
Anmeldetag: 17. Juni 2013
Veröffentlichung: 16. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/65C07C381/12C07D327/08G03F7/038H01L21/027

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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