Mask blank and method for manufacturing phase-shift mask
WO2014010408
Art A1
16. Januar 2014
Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014010408
- Aktenzeichen
- EP13816936
- Anmeldetag
- 25. Juni 2013
- Veröffentlichung
- 16. Januar 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/26H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HOYA Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hoya
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.
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Vertreten von
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