X-ray inspection method and x-ray inspection device

WO2014010421 Art A1 16. Januar 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014010421
Aktenzeichen: EP13817556
Anmeldetag: 26. Juni 2013
Veröffentlichung: 16. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/04

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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