Projektionsbelichtungsvorrichtung für die Mikrolithografie mit einem Optischen Distanzmesssystem

WO2014012641 Art A2 23. Januar 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014012641
Aktenzeichen: EP13747787
Anmeldetag: 12. Juli 2013
Veröffentlichung: 23. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01B9/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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