Semiconductor device and semiconductor device fabrication method

WO2014013888 Art A1 23. Januar 2014

Anmelder: Fuji Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014013888
Aktenzeichen: EP13820212
Anmeldetag: 4. Juli 2013
Veröffentlichung: 23. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78H01L21/336H01L29/739

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fuji Electric Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fuji Electric

Japanischer Elektrotechnikkonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Leistungshalbleiter, Energieerzeugungsanlagen und industrielle Automatisierungstechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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