Sputtering target for forming magnetic recording film and process for producing same

WO2014013920 Art A1 23. Januar 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014013920
Aktenzeichen: EP13819450
Anmeldetag: 10. Juli 2013
Veröffentlichung: 23. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G11B5/851C23C14/34G11B5/64G11B5/65

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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