Passivation film, coating material, solar-cell element, and silicon substrate with passivation film attached thereto
WO2014014116
Art A1
23. Januar 2014
Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014014116
- Aktenzeichen
- EP13820515
- Anmeldetag
- 19. Juli 2013
- Veröffentlichung
- 23. Januar 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L31/04H01L21/316
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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