Masked etch-back method and process for fabrication of selective emitter silicon wafer solar cells

WO2014014420 Art A1 23. Januar 2014

Anmelder: National University of Singapore 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014014420
Aktenzeichen: EP13820679
Anmeldetag: 18. Juli 2013
Veröffentlichung: 23. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3213C09K13/02H01L31/18

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: National University of Singapore
Land: 🇸🇬 Singapur

🇸🇬 National University of Singapore

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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