Symmetrical inductively coupled plasma source with coaxial rf feed and coaxial shielding

WO2014014568 Art A1 23. Januar 2014

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014014568
Aktenzeichen: EP13820305
Anmeldetag: 5. Juni 2013
Veröffentlichung: 23. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H01L21/205C23C16/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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