Organosilane precursors for ald/cvd silicon-containing film applications

WO2014015248 Art A1 23. Januar 2014

Anmelder: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014015248
Aktenzeichen: EP13820177
Anmeldetag: 19. Juli 2013
Veröffentlichung: 23. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/24C23C16/448

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
Land: 🇫🇷 Frankreich

🇫🇷 Air Liquide

Französischer Konzern für Industriegase und medizinische Gase, gegründet 1902 auf Basis des Luftverflüssigungsverfahrens von Georges Claude. Beliefert Industrie, Gesundheitswesen und Elektronikfertigung mit Gasen und Anlagentechnik.

2.774 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von