Method for forming negative resist pattern and photoresist composition

WO2014017144 Art A1 30. Januar 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014017144
Aktenzeichen: EP13823779
Anmeldetag: 13. Mai 2013
Veröffentlichung: 30. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/039G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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