Zno film production device, and production method

WO2014017229 Art A1 30. Januar 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited, National University Corporation Tokyo University Of Agriculture and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014017229
Aktenzeichen: EP13823678
Anmeldetag: 19. Juni 2013
Veröffentlichung: 30. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/448C23C16/40H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
National University Corporation Tokyo University Of Agriculture and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von