Pattern forming method and actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for use in the method

WO2014017269 Art A1 30. Januar 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014017269
Aktenzeichen: EP13823369
Anmeldetag: 26. Juni 2013
Veröffentlichung: 30. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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