Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern forming method using the composition, and electronic device producing method and electronic device

WO2014017408 Art A1 30. Januar 2014

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014017408
Aktenzeichen: EP13822490
Anmeldetag: 12. Juli 2013
Veröffentlichung: 30. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D295/22C07D311/80C07D311/82C07D327/06G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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