Enhanced cleaning process of chamber used plasma spray coating without damaging coating

WO2014018833 Art A1 30. Januar 2014

Anmelder: Applied Materials, Inc., Banda, Sumanth, Sun, Jennifer Y. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014018833
Aktenzeichen: EP13823816
Anmeldetag: 26. Juli 2013
Veröffentlichung: 30. Januar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/302H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Applied Materials, Inc.
Banda, Sumanth
Sun, Jennifer Y.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von