Mask inspection method and mask inspection system for euv-masks

WO2014019870 Art A1 6. Februar 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014019870
Aktenzeichen: EP13739978
Anmeldetag: 18. Juli 2013
Veröffentlichung: 6. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/00G03F1/84G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von