Lithographic apparatus and method of manufacturing a device

WO2014020003 Art A1 6. Februar 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014020003
Aktenzeichen: EP13745621
Anmeldetag: 30. Juli 2013
Veröffentlichung: 6. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20C01B31/04G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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