Mirror arrangement for a lithography apparatus and method for producing the same

WO2014020112 Art A1 6. Februar 2014

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014020112
Aktenzeichen: EP13742656
Anmeldetag: 1. August 2013
Veröffentlichung: 6. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G02B7/182G02B7/183G02B5/08G03F7/20B29D11/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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