Reflective mask blank and method for manufacturing same, method for manufacturing reflective mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2014021235 Art A1 6. Februar 2014

Anmelder: HOYA Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014021235
Aktenzeichen: EP13825089
Anmeldetag: 27. Juli 2013
Veröffentlichung: 6. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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