Method for forming pattern for electronic device, electronic device, and pattern forming device

WO2014021423 Art A1 6. Februar 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited, National Institute Of Advanced Industrial Science, DIC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014021423
Aktenzeichen: EP13825283
Anmeldetag: 1. August 2013
Veröffentlichung: 6. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/336B05D1/38B05D7/00H01L21/288H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
National Institute Of Advanced Industrial Science
DIC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.254 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

3.785 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 DIC Corporation

DIC Corporation ist ein japanischer Chemiekonzern (früher Dainippon Ink and Chemicals) mit Schwerpunkt auf Druckfarben, Pigmenten und organischen Feinchemikalien.

3.020 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von