Method for selecting polycrystalline silicon rod, method for manufacturing polycrystalline silicon ingot and method for manufacturing single crystal silicon
WO2014024388
Art A1
13. Februar 2014
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014024388
- Aktenzeichen
- EP13827131
- Anmeldetag
- 18. Juli 2013
- Veröffentlichung
- 13. Februar 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B29/06C01B33/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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