Photosensitive resin composition for permanent mask resist, photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for producing printed wiring board

WO2014024804 Art A1 13. Februar 2014

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014024804
Aktenzeichen: EP13828177
Anmeldetag: 2. August 2013
Veröffentlichung: 13. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/027H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von