Processing method for wafer
WO2014024829
Art A1
13. Februar 2014
Anmelder: Sekisui Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014024829
- Aktenzeichen
- EP13828755
- Anmeldetag
- 5. August 2013
- Veröffentlichung
- 13. Februar 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02C09J7/02C09J11/02C09J201/00C30B29/06C30B33/06H01L21/304H01L21/306H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sekisui Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sekisui Chemical
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Osaka, tätig in den Bereichen Hochleistungskunststoffe, Bauelemente und elektronische Materialien.
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