Polishing composition, method for producing said polishing composition, and method for producing semiconductor substrate using said polishing composition

WO2014024930 Art A1 13. Februar 2014

Anmelder: Fujimi Incorporated 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014024930
Aktenzeichen
EP13827429
Anmeldetag
7. August 2013
Veröffentlichung
13. Februar 2014
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Fujimi Incorporated
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujimi

Fujimi ist ein japanischer Hersteller von Poliermitteln, vor allem für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben und Klebstoffe sowie Halbleiterbauelemente und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind seit 2000 dokumentiert.

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