Sputtering target for forming transparent oxide film and method for producing same

WO2014025017 Art A1 13. Februar 2014

Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014025017
Aktenzeichen: EP13827513
Anmeldetag: 9. August 2013
Veröffentlichung: 13. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C04B35/16C04B35/453G11B7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Materials Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von