Method for manufacturing optical element and exposure method using optical element

WO2014025047 Art A1 13. Februar 2014

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014025047
Aktenzeichen: EP13827931
Anmeldetag: 9. August 2013
Veröffentlichung: 13. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C03C19/00G03F1/60

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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