Apparatus and method for manufacturing phase-type diffraction element using laser exposure type

WO2014025149 Art A1 13. Februar 2014

Anmelder: Korea Research Institute Of Standards And Science 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014025149
Aktenzeichen: EP13828199
Anmeldetag: 26. Juli 2013
Veröffentlichung: 13. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/18G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Research Institute Of Standards And Science
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Research Institute of Standards and Science

Der Anmelder ist ein südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut für Metrologie mit Sitz in Daejeon, bekannt als KRISS. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik, ergänzt durch Halbleiterbauelemente, Software und Medizintechnik. Anmeldungen laufen seit 2002 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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