Method for manufacturing target for x-ray emission, and target for x-ray emission

WO2014027624 Art A1 20. Februar 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014027624
Aktenzeichen: EP13879473
Anmeldetag: 9. August 2013
Veröffentlichung: 20. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01J9/14H01J35/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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