Lithographic apparatus, device manufacturing method and displacement measurement system

WO2014029601 Art A1 27. Februar 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014029601
Aktenzeichen: EP13773621
Anmeldetag: 2. August 2013
Veröffentlichung: 27. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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