Method of preparing a pattern, method of forming a mask set, device manufacturing method and computer program

WO2014029603 Art A1 27. Februar 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014029603
Aktenzeichen: EP13745406
Anmeldetag: 2. August 2013
Veröffentlichung: 27. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/68G06F17/50

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von