Cleaning method and cleaning system for semiconductor substrates

WO2014030616 Art A1 27. Februar 2014

Anmelder: Kurita Water Industries Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014030616
Aktenzeichen: EP13830575
Anmeldetag: 19. August 2013
Veröffentlichung: 27. Februar 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B08B3/08C23G1/10H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Kurita Water Industries Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kurita Water Industries

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Wasseraufbereitungstechnologien und Chemikalien für industrielle Anwendungen.

1.069 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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