Dual workfunction semiconductor devices and methods for forming thereof

WO2014031413 Art A2 27. Februar 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014031413
Aktenzeichen
EP13831657
Anmeldetag
14. August 2013
Veröffentlichung
27. Februar 2014
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/283H01L27/088
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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