Deformation pattern recognition method, pattern transferring method, processing device monitoring method, and lithographic apparatus

WO2014032833 Art A1 6. März 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014032833
Aktenzeichen: EP13731812
Anmeldetag: 27. Juni 2013
Veröffentlichung: 6. März 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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