Sic semiconductor thin film and production method therefor

WO2014033826 Art A1 6. März 2014

Anmelder: Nissin Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014033826
Aktenzeichen
EP12883950
Anmeldetag
28. August 2012
Veröffentlichung
6. März 2014
Rechtsraum
WO
IPC
C30B29/36C30B19/04H01L21/208
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Nissin Electric Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nissin Electric

Nissin Electric ist ein japanischer Hersteller elektrischer Anlagen und Halbleiterfertigungsausrüstung mit Sitz in Kyoto. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleitertechnik und Metallurgie, ergänzt durch Schaltungs- und Energietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2025.

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