Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method, radiation-sensitive acid generator, compound and method for producing compound

WO2014034190 Art A1 6. März 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014034190
Aktenzeichen: EP13833591
Anmeldetag: 13. Mai 2013
Veröffentlichung: 6. März 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C303/02C07C303/22C07C309/03C07C309/04C07C309/07C07C309/08C07C309/09C07C309/10C07C309/15C07C309/17C07C309/19C07C309/71C07C381/12C07D307/33C07D307/93C07D313/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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