Photosensitive resin composition and pattern formation method using same

WO2014034541 Art A1 6. März 2014

Anmelder: Central Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014034541
Aktenzeichen: EP13832688
Anmeldetag: 23. August 2013
Veröffentlichung: 6. März 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023C08G63/19G03F7/004G03F7/038G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Central Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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