Euv Resist Sensitivity Reduction

WO2014035871 Art A1 6. März 2014

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014035871
Aktenzeichen: EP13759380
Anmeldetag: 26. August 2013
Veröffentlichung: 6. März 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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