Photosensitive resin composition for photo spacer, and photo spacer

WO2014038576 Art A1 13. März 2014

Anmelder: Nippon Shokubai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014038576
Aktenzeichen: EP13834798
Anmeldetag: 4. September 2013
Veröffentlichung: 13. März 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08F220/26C08F220/28C08F222/40G02F1/1339

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nippon Shokubai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Shokubai

Japanisches Chemieunternehmen, das unter anderem Acrylsäure, Superabsorber und Katalysatoren für die Industrie produziert.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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