Charged-particle-beam device and method for correcting aberration

WO2014041927 Art A1 20. März 2014

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014041927
Aktenzeichen: EP13837455
Anmeldetag: 7. August 2013
Veröffentlichung: 20. März 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/153H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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