Method for producing semiconductor device and device for producing semiconductor
WO2014045828
Art A1
27. März 2014
Anmelder: National Institute Of Advanced Industrial Science 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014045828
- Aktenzeichen
- EP13839623
- Anmeldetag
- 29. August 2013
- Veröffentlichung
- 27. März 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/607
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National Institute Of Advanced Industrial Science
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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