Silicon-Containing Resist Underlayer Film-Forming Composition Which Contains Cyclic Organic Group Having Heteroatom

WO2014046055 Art A1 27. März 2014

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014046055
Aktenzeichen: EP13839652
Anmeldetag: 13. September 2013
Veröffentlichung: 27. März 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G77/26C08G77/28H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von