Photoresist composition, method for forming resist pattern, and acid generator

WO2014046097 Art A1 27. März 2014

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014046097
Aktenzeichen: EP13838489
Anmeldetag: 17. September 2013
Veröffentlichung: 27. März 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/65C07C381/12C07D307/91C08F20/16C09K3/00G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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