Method for depositing thin metal film on substrate

WO2014046332 Art A1 27. März 2014

Anmelder: Korea Institute of Science and Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014046332
Aktenzeichen: EP12885157
Anmeldetag: 22. Oktober 2012
Veröffentlichung: 27. März 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Korea Institute of Science and Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Science and Technology

Südkoreanisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Seoul, das interdisziplinäre Forschung in Naturwissenschaften, Ingenieurwesen und Materialtechnologie betreibt und zahlreiche Patente aus seinen Instituten hervorbringt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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