Method of manufacturing horizontally aligned single crystalline inorganic nanowire patterns

WO2014046407 Art A1 27. März 2014

Anmelder: Postech Academy-Industry Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014046407
Aktenzeichen: EP13839359
Anmeldetag: 6. September 2013
Veröffentlichung: 27. März 2014
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/268H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Postech Academy-Industry Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Postech Academy-Industry Foundation

Die Postech Academy-Industry Foundation ist die Technologietransferstelle der südkoreanischen Universität POSTECH mit Sitz in Pohang. Die Patente stammen aus Forschungsprojekten in Materialwissenschaft, Elektronik und Chemie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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