Silicon carbide semiconductor device and method for manufacturing same
WO2014049806
Art A1
3. April 2014
Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2014049806
- Aktenzeichen
- EP12885622
- Anmeldetag
- 28. September 2012
- Veröffentlichung
- 3. April 2014
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L29/06H01L21/336H01L29/12H01L29/78H01L29/861H01L29/868
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
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