Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for producing touch panel

WO2014050567 Art A1 3. April 2014

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014050567
Aktenzeichen: EP13842099
Anmeldetag: 11. September 2013
Veröffentlichung: 3. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/075G03F7/004G03F7/027G03F7/40G06F3/041

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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