Reflective mask blank for euv-lithography and manufacturing method therefor, and reflective mask for euv-lithography and manufacturing method therefor

WO2014050891 Art A1 3. April 2014

Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2014050891
Aktenzeichen
EP13840749
Anmeldetag
25. September 2013
Veröffentlichung
3. April 2014
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/027G03F1/24G03F1/38
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Asahi Glass Company, Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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