Self-organizing composition for forming pattern, method for forming pattern by self-organization of block copolymer using same, and pattern

WO2014050905 Art A1 3. April 2014

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2014050905
Aktenzeichen: EP13840956
Anmeldetag: 25. September 2013
Veröffentlichung: 3. April 2014
Rechtsraum: WO
IPC: C08L53/00B82Y40/00C08F293/00G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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